臺積電要放大招！5nm工藝首次曝光
為了解決工藝提升中的各種復雜挑戰，半導體行業早就想出了各種各樣的高招，但因為成本太過于高昂，技術太過于復雜，一直都很難投入實用，比如說極紫外光刻(EUV)。
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科客點評：掌握技術者得天下，看來又是一場激烈的拉鋸戰了。
作為全球最大的代工廠，臺積電這幾年并不是很順利，但每每展望未來總是一片光明：2016年第四季度量產10nm，2018投產7nm……那么再往后呢？就是5nm了。嗯，沒錯，越往后進步幅度就會越小，5nm之后還能不能繼續前進都是個大問題了。為了解決工藝提升中的各種復雜挑戰，半導體行業早就想出了各種各樣的高招，但因為成本太過于高昂，技術太過于復雜，一直都很難投入實用，比如說極紫外光刻(EUV)。
根據規劃， 臺積電的10nm、7nm都會用上EUV極紫外技術，更遙遠的5nm也會如此，而且還會加入新的多重電子束技術(multipe e-beam)。不過，5nm還屬于長期規劃，需要解決的問題太多太多，何時投產尚無明確時間表，臺積電只是說會在2014-2019年間不斷研究5nm。
業內人士預計，10nm之后的工藝至少5年以后才能實現，照這么預計及時7nm也得等到2020年，而按照臺積電這幾年的拖沓表現，還真不好說。Intel也在一直研究極紫外光刻和450毫米大晶圓，但多次推遲了投產進度。450毫米晶圓已經在試產，應該會在10nm上使用。極紫外說不定得等7nm。（快科技，原標題《臺積電5nm首次曝光：要出絕招！》）
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冰精靈
看看又能坑多少隊友了。
葛城美里
沒有cpu技術專利，連機器也是荷蘭的，說到底也就是代工廠。
李芳準
16納米都還沒解決就開始吹5納米
天野愛
臺積電16nm已于昨天宣布正式量產，不要亂噴
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